Co je to tenký filmový výparník?

Odpařovač tenkého filmu je stroj používaný k vytváření tenkého filmu.Odpařováním nebo sublimací různých prvků může odpařovač tenkých filmů ukládat extrémně tenké vrstvy atomů nebo molekul na materiál substrátu.Stroj se skládá z vakuové komory, topného prvku a přístroje, který drží a pohybuje substrátem, zatímco na něj je nanesen tenký film.

Existují dva primární typy odpařování, které lze použít k vytvoření tenkého filmu.Jedná se o odpory odpařování a odpařování elektronového paprsku.V obou těchto technikách je cílový materiál zahříván v tenkém filmovém odpaření, dokud se nevypařuje nebo se sublimatuje.Jako plyn se cílový materiál pohybuje vakuovou komorou, dokud nepřistane na substrátu a vytvoří tenký film.Obě tyto techniky vyžadují, aby cílové materiály byly stejně stabilní jako plyn.S dostatečným teplem se cílový materiál vypařuje nebo sublimatuje.Zlato a hliník jsou běžné cílové materiály, které lze odpařit ve formě kovových vodičů, nazývaných vlákna.Cílové materiály ve formě vlákna je obtížné načíst na výparník a lze je zpracovat pouze v malém množství.Výparník z tenkého filmu může také používat tenké listy cílového materiálu, který je často snadněji pracovat a přinést další hmotu při odpaření.

Některé cílové materiály jsou nevhodné pro odporovou odpařování, protože během procesu mohou zbavit velké části pevné hmoty.Pokud se tyto pevné látky srazí s tvorbou tenkého filmu na substrátu, mohou je zničit.Odpařování těchto materiálů vyžaduje použití uzavřeného zdroje topení, který umožňuje plynné formě materiálu uniknout malými otvory při zachycení částí pevné hmoty v topné komoře.

Odpařování elektronového paprsku zahřívá cílový materiál nasměrováním paprsku vysoce energetických elektronů na něj.U tohoto typu výparníku tenkého filmu je cílový materiál udržován v chlazeném krbu, zatímco je bombardován elektrony a zahříván.Tento proces je užitečný pro cílové materiály s velmi vysokou teplotou odpařování, protože zaostřený paprsek energie může zahřívat cílový materiál bez zahřívání celého přístroje.Kontejner držící cílový materiál není vystaven extrémnímu teplu, takže se během procesu neroztaví ani se neodpařuje.Tento typ odpařování tenkého filmu vyžaduje konkrétní vybavení a může být docela nákladné.