Was ist RF -Magnetron -Sputter?

Radiofrequenz-Magnetron-Sputter, auch RF-Magnetron-Sputtern genannt, ist ein Vorgang, mit dem Dünnfilm hergestellt werden, insbesondere bei der Verwendung von Materialien, die nicht leitend sind.In diesem Prozess wird ein dünner Film auf einem Substrat angebaut, das in einer Vakuumkammer platziert wird.Starke Magnete werden verwendet, um das Zielmaterial zu ionisieren und es zu ermutigen, sich auf das Substrat in Form eines Dünnfilms einzulassen.

Der erste Schritt im RF -Magnetron -Sputterprozess besteht darin, ein Substratmaterial in eine Vakuumkammer zu platzieren.Die Luft wird dann entfernt, und das Zielmaterial, das Material, das den Dünnfilm umfasst, wird in Form eines Gases in die Kammer freigesetzt.Partikel dieses Materials werden durch die Verwendung starker Magneter ionisiert.Jetzt in Form von Plasma richtet sich das negativ geladene Zielmaterial auf dem Substrat, um einen dünnen Film zu bilden.Dünnfilme können von einigen wenigen bis ein paar hundert Atomen oder Molekülen in der Dicke reichen.

Die Magnete beschleunigen das Wachstum des Dünnfilms, da die Magnetisierung der Atome dazu beiträgt, den Prozentsatz des ionisierten Zielmaterials zu erhöhen.Ionisierte Atome interagieren eher mit den anderen Partikeln, die am Dünnfilmprozess beteiligt sind, und lassen sich daher eher auf das Substrat ein.Dies erhöht die Effizienz des Dünnfilmprozesses und ermöglicht es ihnen, schneller und bei niedrigeren Drücken zu wachsen.

Der RF-Magnetron-Sputterprozess ist besonders nützlich, um Dünnfilme aus nicht leitenden Materialien herauszuarbeiten.Diese Materialien haben möglicherweise mehr Schwierigkeiten, sich zu einem dünnen Film zu entwickeln, da sie ohne den Einsatz von Magnetismus positiv geladen werden.Atome mit einer positiven Ladung verlangsamen den Sputterprozess und können andere Partikel des Zielmaterials „vergiften“, wodurch der Prozess weiter verlangsamt werden kann.

Magnetron-Sputtern kann mit leitenden oder nicht leitenden Materialien verwendet werden, während ein verwandter Prozess, genannt, genannt werdenDiode (DC) -Magnetronsputter, funktioniert nur mit leitenden Materialien.DC -Magnetronsputter wird häufig bei höheren Drücken durchgeführt, was schwer zu pflegen sein kann.Die im RF -Magnetronsputter verwendeten niedrigeren Drücke sind aufgrund des hohen Prozentsatzes an ionisierten Partikeln in der Vakuumkammer möglich.