Qual è il processo di film sottile?
Il processo di film sottile può coinvolgere una serie di procedure chimiche o fisiche diverse.Le tecniche di elaborazione del film sottile più comuni sono l'uso di sostanze chimiche liquide o di gas, metodi di evaporazione o processo di sputtering.Le combinazioni di queste tecniche sono anche comuni nel processo di film sottile, che consente un maggiore controllo sulle proprietà del prodotto finale.Il processo a film sottile può essere di natura fisica o chimica.
Le sostanze chimiche, in forme liquide o di gas, possono essere utilizzate per creare un film sottile.La deposizione di vapore chimico, ad esempio, espone un materiale a una sostanza chimica che si decompone o reagisce al materiale.Ci sono spesso sottoprodotti pericolosi o volatili creati durante questo processo, quindi i laboratori devono essere attrezzati per smaltire le sostanze chimiche risultanti.Il riscaldamento del substrato può migliorare la crescita del film sottile durante la deposizione di vapore chimico.
L'evaporazione è un altro comune processo di film sottile.In evaporazione, il materiale target viene riscaldato fino a quando non evapora o sublima.Una volta che la sostanza è un gas, viene rilasciata in una camera che contiene il substrato su cui si formerà il film sottile.La sostanza colpisce il substrato e forma un film sottile.
Esistono diverse macchine che possono essere utilizzate per evaporare i materiali target.Queste macchine possono riscaldare un materiale target su una bobina riscaldata, una piastra o in una camera riscaldata.Le sostanze possono anche essere evaporate se sono colpite da un raggio di elettroni o fotoni ad alta intensità, come quelli emessi da un laser.
Il processo di sputtering, chiamato anche deposizione di sputter o sputtering del magnetron reattivo, è un processo di film sottile comunemente usato.Durante questo processo, un substrato viene collocato in una camera a vuoto in una macchina specializzata.L'aria viene aspirata dalla camera e il materiale bersaglio viene rilasciato nella camera sotto forma di un gas.I magneti forti creano un addebito che fa sì che il materiale target ionizzasse e depositi sul substrato.Spostare il substrato avanti e indietro durante questo processo garantisce che il film sottile sia distribuito uniformemente sulla sua superficie.
Il processo di film sottile crea film sottili di vari elementi o molecole che vanno tra alcuni e poche centinaia di atomi di spessore.I film sottili hanno molti usi e sono componenti comuni in computer, dispositivi ottici e filtri a colori per telecamere e telescopi.I film sottili sono comunemente realizzati in titanio, alluminio, oro, argento e leghe di questi metalli.I substrati comuni includono metalli, materie plastiche, vetro e ceramiche.