Cos'è la deposizione del vuoto?

Il termine deposizione del vuoto descrive un gruppo di processi che hanno lo scopo di deporre singole particelle, in particolare atomi e molecole, su una superficie.I processi sono condotti nel vuoto per prevenire qualsiasi interferenza o reazione con particelle di gas come l'ossigeno, che può essere altamente reattivo.Uno strato molto sottile di una sostanza applicata a una superficie viene definito un film, mentre uno strato più spesso è chiamato rivestimento.La deposizione del vuoto può servire a molti scopi diversi, come il deposito di strati conduttivi su superfici o la protezione dei metalli dalla corrosione.Il processo viene spesso utilizzato anche su varie parti automobilistiche per vari scopi come la prevenzione di arrugginitura e corrosione.

I metodi più comunemente usati di deposizione del vuoto comportano l'uso del vapore.A volte, la sostanza che deve essere depositata sulla superficie viene vaporizzata;Successivamente si condensa come uno strato in superficie.In altri casi, la sostanza o le sostanze vaporizzate reagiscono con la superficie per formare il film o il rivestimento desiderati.In alcuni casi, altri fattori come la temperatura o la densità di vapore devono essere manipolati per ottenere i risultati desiderati.Questi fattori possono influenzare lo spessore e la coesione dello strato, quindi è essenziale che siano regolati correttamente.

La deposizione di vapore fisico è la deposizione del vuoto in cui si verificano solo processi fisici;Non ci sono reazioni chimiche.I metodi di deposizione di vapore fisico sono utilizzati principalmente per coprire le superfici con film sottili;Le sostanze vaporizzate sono condensate sulla superficie.Uno di questi metodi è chiamato deposizione di vapore fisico del fascio di elettroni.Nella deposizione di vapore fisico del fascio di elettroni, il materiale da depositare viene riscaldato e vaporizzato con un fascio di elettroni prima di condannare sulla superficie della deposizione.Un altro metodo comune di deposizione fisica del vuoto è la deposizione di sputter, in cui il gas o il vapore vengono espulsi da qualche fonte e diretto sulla superficie da rivestire.Film o rivestimento desiderato.I gas o i vapori reagiscono con la superficie che hanno lo scopo di ricoprire nel vuoto.Molte diverse sostanze chimiche, come nitruro di silicio o polisilicio, sono utilizzate in diversi processi di deposizione di vapore chimico.

Il vuoto è una parte essenziale della deposizione del vuoto;Serve diversi ruoli importanti.La presenza di un vuoto provoca una bassa densità di particelle indesiderate, quindi le particelle che hanno lo scopo di rivestire la superficie non reagiscono o si scontrano con alcuna particella contaminante.Il vuoto consente inoltre agli scienziati di controllare la composizione del vuoto della camera del vuoto in modo da poter produrre un rivestimento delle dimensioni e della consistenza adeguate.