스퍼터링 머신이란 무엇입니까?

sputtering 스퍼터링 기계는 일반적으로 전자와 같은 에너지 입자가 표면에서 원자를 배출하는 소스 재료를 폭격하는 작은 밀봉 된 챔버입니다.그런 다음이 원자들은 챔버 벽에서 튀어 나와 챔버 내부의 샘플 물체를 코팅합니다.샘플의 전기 전도도에 의존하여 나노 미터 규모의 특징을 볼 수있는 스캐닝 전자 현미경 (SEMS)은 종종 스퍼터링 기계에 의존하여 생물학적 샘플을 먼저 플래티넘 층으로 코팅하기 위해 먼저 의존합니다.스퍼터링 기계 기술에 대한 다른 용도에는 반도체 산업을위한 증착 공정에서 박막을 코팅하고 화학 조성을 결정하기 위해 재료로부터 표면층을 에칭하는 것이 포함됩니다.복잡하고 비싸고 스퍼터링 장비는 필요하지 않습니다.스퍼터링 기계는 확립 된 물리적 원리에서 작동하는 비교적 간단한 장치 일 수 있으며 종종 움직이는 부품이나 복잡한 유지 보수가 필요하지 않습니다.그들은 작은 테이블 상단 장치에서 큰 바닥 모델에 이르기까지 크기가 다양합니다.증착 재료는 저압, 일반적으로 부분 진공하에 스퍼터 챔버의 증기로 변환됩니다.증기는 챔버의 기질 물질에 응축되어 박막을 형성한다.이 필름은 여러 층의 원자 또는 분자가 두껍게 될 수 있으며, 스퍼터링 과정이 얼마나 오래 지속되는지에 비례하여 직접적으로 두껍게됩니다.얇은 필름 두께의 다른 요인은 관련된 각 재료의 질량과 코팅 입자의 에너지 수준을 포함하며, 이온으로 알려진 수십 개의 전자 볼트로부터 전하로부터 충전 될 수 있습니다.잠재적 인 스퍼터링으로 알려진 프로세스의 기계.스퍼터 재료에는 이온 전하가 주어지면 표면에 영향을 줄 때 손실됩니다.이 과정과 관련하여 2 차 이온 질량 분석 (SIMS) 연구에서 자연적 이온 물질을 사용하여 재료의 미량 원소의 존재를 분석하는 반응성 이온 에칭 (RIE)이 있습니다.정적 심즈 처리는 원자 단일 층의 10 분의 1만이 대상 표면에서 제거 될 수있는 미세한 속도로 스퍼터링됩니다.따라서 SEM을위한 스퍼터링 기계와 마찬가지로 나노 기술 연구에서 또 다른 유용한 도구입니다. 스퍼터링 기계의 다른 용도로는 평평한 유리, 아크릴 및 기타 플라스틱뿐만 아니라 실리콘 이외의 도자기 및 결정이 포함됩니다.또한 섬세한 구성 요소를 청소하고 연마하는 매우 훌륭한 방법으로 사용될 수 있습니다.골드 칼과 같은 고가의 보석류 및 식기는 특수 금과 알루미늄 필름과 마찬가지로 스퍼터 퇴적을 겪을 수 있습니다.