Co to jest rozpylenie magnetronowe RF?

Rozpłuszanie magnetronowe częstotliwości radiowej, zwane także rozpyleniem magnetronowym RF to proces używany do wytwarzania cienkiej warstwy, szczególnie przy użyciu materiałów niekondukcyjnych.W tym procesie cienki warstwę uprawiana jest na podłożu umieszczonym w komorze próżniowej.Mocne magnesy służą do jonizacji materiału docelowego i zachęcania go do osiedlenia się na podłożu w postaci cienkiej warstwy.Pierwszy krok w procesie rozpylania magnetronowego RF jest umieszczenie materiału podłoża w komorze próżniowej.Następnie powietrze jest usuwane, a materiał docelowy, materiał, który będzie zawierał cienką warstwę, jest uwalniany do komory w postaci gazu.Cząstki tego materiału są jonizowane poprzez zastosowanie mocnych magnesów.Teraz w postaci plazmy ujemnie naładowany materiał docelowy ustawia się na podłożu, tworząc cienką warstwę.Cienkie warstwy mogą wahać się od kilku do kilkuset atomów lub cząsteczek.

Magnesy pomagają przyspieszyć wzrost cienkiej warstwy, ponieważ magnetyzacja atomów pomaga zwiększyć odsetek docelowego materiału, który zostaje zjonizowany.Atomy zjonizowane częściej oddziałują z innymi cząstkami zaangażowanymi w proces cienkiego warstwy, a zatem częściej osiedlają się na podłożu.Zwiększa to wydajność procesu cienkiego warstwy, pozwalając im szybciej rosnąć i przy niższych ciśnieniach.

Proces rozpylania magnetronowego RF jest szczególnie przydatny do wykonywania cienkich warstw z materiałów, które nie są przewodnictwem.Materiały te mogą mieć większe trudności z tworzeniem się w cienką warstwę, ponieważ stają się dodatnio naładowane bez użycia magnetyzmu.Atomy z ładunkiem dodatnim spowolnią proces rozpylania i mogą „zatruć” inne cząstki materiału docelowego, dalsze spowolnienie procesu.

Zapryskiwanie magnetronowe może być stosowane z materiałami przewodzącymi lub niekonduktowymi, podczas gdy powiązany proces, zwany procesem, zwanym procesemRozpłuszanie magnetronowe diody (DC) działa tylko z materiałami przewodzącymi.Rozpuszczenie magnetronowe DC jest często wykonywane przy wyższych ciśnieniach, co może być trudne do utrzymania.Niższe ciśnienia stosowane w rozpylaniu magnetronowym RF są możliwe ze względu na wysoki odsetek zjonizowanych cząstek w komorze próżniowej.