Vad är en fotomask?

En fotomask är en ogenomskinlig platta som används i litografiprocesser.Öppningar eller hål i den ogenomskinliga ytan är arrangerade för att låta ljuset lysa igenom, vilket överför mönstret från fotomasken till ett annat material, såsom papper.Photomasks finns vanligtvis i tillverkning av halvledare, där de exakt överför bilder och arrangemang av integrerade kretsar till ett kretskort.Denna process kallas fotolitografi.

Photomasks spelar en oerhört viktig roll i utvecklingen av avancerad teknik i vårt samhälle.Modern teknik kräver mindre komponenter, som möjliggör enheter som mycket små handhållna datorer och andra småskaliga tekniker.Utan fotmaskor eller litografi kunde inte arrangemangen av kretsar och chips inom dessa enheter överföras exakt.

Utformningen av en fotomask bestäms av chipmakare, vars exakta detaljer beskrivs genom en mängd olika språk och medier.På grund av de unika designspecifikationerna för varje tillverkare måste företag som producerar fotomasker ha en grundlig förståelse för designen.En av de viktigaste delarna av att producera fotomasker är själva masken.I de flesta fall är masken utformad av en högkvalitativ krom på grund av dess exakta och låga felfrekvens.

Photomasks spelar en väsentlig roll i produktionen av halvledare, vilket kräver litografiska procedurer.Moderna litografiska verktyg som är utrustade med högdämpande linser används för att överföra ljus genom fotomasken.Det ljus som projiceras från dessa enheter lyser genom mönstret i fotomasken, som projiceras på en kiselskiva.Skivan dyker upp med en fotoresist, som är ett ljuskänsligt material.En negativ fotoresist används sedan för att ta bort den maskerade delen av materialet;För att vända processen används en positiv fotoresist.

Varje lager av ett chip kräver en unik fotomask.De flesta halvledare har minst 30 lager, vilket resulterar i ett behov av minst 30 unika fotomasker för varje halvledare.Photomasks är emellertid mycket mer än bara ett sätt att spåra ett mönster på ett chip.Detta beror på att kretsarrangemangen är mycket exakta och deras mönster måste överföras så exakt som möjligt.Litografi möjliggör extremt noggrann designöverföring.

Photomasks hjälper till med miniturisering av datorchips.Detta beror på att mindre chips kräver mycket exakta bilder av deras allmänna arrangemang, vilket är nästan omöjligt utan en litografisk process.Utan fotomasken skulle små handhållna datorer nästan vara en omöjlighet, eftersom deras små kretsar och chips kräver ett exakt arrangemang.