Apa itu stres film tipis?

Tegangan film tipis mengacu pada bermacam -macam ketidaksempurnaan struktural yang mengakibatkan degradasi atau kegagalan lapisan mikroskopis bahan optik atau konduktif.Sejumlah masalah dapat terjadi ketika film diproduksi atau diterapkan secara tidak benar pada suatu produk.Dengan lapisan kadang -kadang hanya beberapa atom yang tebal, interaksi yang tidak direncanakan antara bahan dapat memiliki efek nyata pada kinerja film.Mengingat banyak pengaruh ini, beberapa jenis utama stres film tipis dapat terjadi.Ini termasuk stres epitaxial, stres termal, dan stres pertumbuhan, serta proses deformasi lainnya.

Adopsi teknologi film tipis menantang pengembangan proses manufaktur dan deposisi untuk mengakomodasi berbagai macam produk.Teknologi rumah tangga dan ilmiah mengandalkan film tipis untuk banyak aplikasi panjang gelombang cahaya, seperti dalam komponen optik dalam mesin fotokopi, pemindai, dan panel surya film tipis.Produk juga dapat memperoleh manfaat dari peningkatan material film tipis, seperti goresan atau ketahanan benturan.Film tipis memanipulasi sifat panjang gelombang dan konduktansi dan memperluas kemampuan berbagai teknologi.Tantangan manufaktur dan deposisi yang bervariasi menawarkan target yang bergerak untuk inovasi dan penyempurnaan.

Tegangan film tipis hasil dari masalah pengendapan, proses termal, dan teknologi laser, di antara penyebab lainnya.Secara umum, film tipis diproduksi menggunakan metode yang menyajikan karakteristik unik, kekuatan, dan kekurangan.Film dapat retak atau batal, dan kadang -kadang terangkat dari media substratnya, sementara proses lain mungkin mengganggu karakteristik seperti resistensi terhadap kelembaban atau oksidasi.

Tekanan film tipis epitaxial terjadi ketika kisi kristal dalam film berbaris dengan sempurna terhadap yang ada di substrat, atau bahan pendukung.Tekanan yang tidak sesuai terjadi ketika film dan material menjadi kristal tunggal.Tegangan termal berasal dari perbedaan suhu di bawah pengaruh ekspansi panas.Jenis stres ini sering terjadi pada peralatan yang mengalami perubahan suhu atau ekstrem.

Pertumbuhan stres film tipis, atau dikenal sebagai stres intrinsik, cacat melalui ketidakkonsistenan selama proses pengendapan.Stres biasanya muncul ketika ketebalan film telah dilapisi secara tidak merata.Berbagai negara dapat terjadi melalui kompresi, ketegangan, atau perbedaan relaksasi dalam koalesensi kristal.

Jenis lain dari tegangan film tipis dikenal sebagai tegangan permukaan.Itu terjadi sebagai satuan gaya per satuan panjang selama pengendapan.Jenis ini sangat kontras dengan energi permukaan, yang merupakan keseimbangan suhu atau reaksi kimia pada satu unit luas permukaan.Batas butir dapat menghasilkan stres, karena kristal menunjukkan fleksibilitas terbatas dalam interaksi mereka.

Sebagai akibat dari stres film tipis, efek pada umumnya dapat mengubah kinerja film tipis, deformasi secara tidak konsisten dari luas permukaannya.Sangat penting untuk memahami dan menciptakan variasi stres yang diinginkan dalam film tipis yang diberikan suhu atau sifat material.Faktor -faktor tersebut bekerja sama dengan proses kontrol lainnya, seperti suhu dan aliran gas, untuk menciptakan akurasi target dalam produksi film tipis.Menyeimbangkan proses ini dapat meminimalkan gangguan destruktif dan mengoptimalkan kinerja teknologi mikroskopis ini.