Skip to main content

Hva er et sprøytekammer?

Et sprøytekammer brukes i prosessen med ICP-MS-spektrometri.Sprøytekamre brukes på et bestemt punkt i prosessen der en fin spray utvikles og deretter lagres i et kammer der argon deretter blandes inn. Det essensielle ansvaret for spraymenn er å sikre at bare dråper som er små og smale i størrelse lagedet gjennom til plasmaet.Et flertall av materialet som blir prøvetatt blir tappet fra kammeret, og resten blir introdusert for plasma der det blir begeistret av høye temperaturer.

Sprangekamre blir ofte brukt under prosessen med ICP-MS.ICP-MS står for induktivt koblet plasmaspektrometer.ICP-MS er et veldig følsomt, tidseffektivt system som brukes til å måle den elektriske konsentrasjonen av forskjellige løsninger.Ved bruk av ICP-MS kan så mange som 75 individuelle elementer bestemmes, selv om elementet bare har en del per milliard i løsningen.

Det er mange trinn i ICP-MS-prosedyren som lar forskere analysere elementer.Det første trinnet i prosessen er å konvertere molekylene i et prøvestoff til individuelle atomer og ioner.Dette gjøres ved å utsette prøven for radiofrekvens argonplasma med høy temperatur.En pumpe fører prøven til en forstøver og den konverteres til en fin spray.

Fine spray holdes deretter i spraykammeret der den blandes med et argonplasma.I kammeret tappes et flertall av prøven bort mens resten føres med i prosessen.Resten av prøven blandet med argonplasmaet blir deretter utsatt for høy varme og ionisert for partikkelspektrumanalyse.

Det er et mangfold av forskjellige ICP-MS-maskiner som brukes til analyse av prøver.Derfor er det også forskjellige typer sprøytekamre.Noen av de forskjellige tilgjengelige typene er Althea, Vågen, elektronet og Poistron.

Althea brukes til høy gjennomstrømning ved høyt inntak.Vågen er et syklonisk forvirret sprøytekammer som brukes til lave løsningsmidler.Elektronet er et minikyclonisk spraykammer for lavt opptak og rask gjennomstrømning.Poistron er et minikyclonisk forvirret spraykammer som brukes til lavt opptak og et minimum løsningsmiddelbelastning.