Ano ang isang photomask?

Ang isang photomask ay isang opaque plate na ginagamit sa mga proseso ng lithography.Ang mga pagbubukas o butas sa opaque na ibabaw ay nakaayos upang payagan ang ilaw na lumiwanag, na naglilipat ng pattern mula sa photomask papunta sa isa pang materyal, tulad ng papel.Ang mga Photomass ay karaniwang matatagpuan sa paggawa ng mga semiconductors, kung saan tumpak na inilipat nila ang mga imahe at pag -aayos ng mga integrated circuit sa isang circuit board.Ang prosesong ito ay kilala bilang photolithography.

Ang mga photomasks ay naglalaro ng isang napakahalagang papel sa pagbuo ng advanced na teknolohiya sa ating lipunan.Hinihiling ng modernong teknolohiya ang mas maliit na mga sangkap, na nagbibigay-daan sa mga aparato tulad ng napakaliit na mga computer na gaganapin ng kamay at iba pang mga maliliit na teknolohiya na umiiral.Kung walang mga photmasks o lithography, ang mga pag -aayos ng mga circuit at chips sa loob ng mga aparatong ito ay hindi maipadala nang tumpak.Dahil sa natatanging mga pagtutukoy ng disenyo ng bawat tagagawa, ang mga kumpanya na gumagawa ng mga photomas ay dapat magkaroon ng masusing pag -unawa sa disenyo.Ang isa sa mga pinakamahalagang bahagi ng paggawa ng mga photomasks ay ang maskara mismo.Sa karamihan ng mga kaso, ang maskara ay naka-istilong mula sa isang de-kalidad na kromo, dahil sa katumpakan at mababang rate ng kasalanan.Ang mga modernong tool ng lithographic na nilagyan ng mga high-aperture lens ay ginagamit upang magpadala ng ilaw sa pamamagitan ng photomask.Ang ilaw na inaasahang mula sa mga aparatong ito ay nagniningning sa pamamagitan ng pattern sa loob ng photomask, na inaasahang papunta sa isang silikon na wafer.Ang wafer ay naka-surf sa isang photoresist, na kung saan ay isang light-sensitive material.Ang isang negatibong photoresist ay pagkatapos ay nagtatrabaho upang alisin ang naka -mask na bahagi ng materyal;Upang baligtarin ang proseso, ginagamit ang isang positibong photoresist.

Ang bawat layer ng isang chip ay nangangailangan ng isang natatanging photomask.Karamihan sa mga semiconductors ay may hindi bababa sa 30 mga layer, na nagreresulta sa isang pangangailangan ng hindi bababa sa 30 natatanging mga photomas para sa bawat semiconductor.Ang mga Photomass, gayunpaman, ay higit pa sa isang paraan upang masubaybayan ang isang pattern sa isang maliit na tilad.Ito ay dahil ang mga pag -aayos ng circuit ay napaka -tumpak, at ang kanilang mga pattern ay dapat na maipadala nang tumpak hangga't maaari.Pinapayagan ng Lithography para sa sobrang tumpak na paghahatid ng disenyo.Ito ay dahil ang mas maliit na mga chips ay nangangailangan ng lubos na tumpak na mga imahe ng kanilang pangkalahatang pag -aayos, na malapit sa imposible nang walang isang proseso ng lithographic.Kung wala ang photomask, ang mga maliliit na computer na gaganapin ay halos isang imposible, dahil ang kanilang maliit na circuit at chips ay nangangailangan ng isang tumpak na pag-aayos.