スパッタリングターゲットとは何ですか？

Sputteringターゲットとは、スパッタ堆積または薄膜堆積として知られる技術で薄膜を作成するために使用される材料です。このプロセス中に、固体として始まるスパッタリング標的材料は、ガスイオンによって分割され、スプレーを形成し、基質として知られる別の材料をコーティングします。スパッタの堆積は、一般的に半導体とコンピューターチップの作成に関与しています。その結果、ほとんどのスパッタリングターゲット材料は金属要素または合金ですが、さまざまなツールに硬化した薄いコーティングを作成するセラミックターゲットがいくつかあります。と形。最小のターゲットの直径は1インチ（2.5 cm）未満であり、最大の長方形のターゲットは長さ1ヤード（0.9 m）をはるかに超えることができます。一部のスパッタリング機器にはより大きなスパッタリングターゲットが必要であり、これらの場合、メーカーは特別なジョイントで接続されたセグメント化されたターゲットを作成します。明確。したがって、ターゲットの形状と構造も多様性が拡大し始めています。スパッタリングターゲットの形状は通常、長方形または円形のいずれかですが、多くのターゲットサプライヤーはリクエストに応じて追加の特別な形状を作成できます。特定のスパッタリングシステムには、より正確で薄い膜を提供するために回転ターゲットが必要です。これらのターゲットは長いシリンダーのような形をしており、より速い堆積速度、熱損傷の減少、表面積の増加などの追加の利点を提供します。これにより、全体的なユーティリティが向上します。イオンの種類はそれらを分解するために使用されます。ターゲット材料に純粋な金属を必要とする薄膜は、ターゲットが可能な限り純粋である場合、通常、より構造的な完全性を持ちます。スパッタリングターゲットを砲撃するために使用されるイオンは、まともな品質の薄膜を生成するためにも重要です。一般的に、アルゴンはスパッタリングプロセスをイオン化および開始するために選択される主要なガスですが、軽いまたは重い分子を持つターゲットの場合、軽い分子のネオンや重い分子のクリプトンなど、より効果的です。ガスイオンの原子量は、エネルギーと運動量の移動を最適化するためにスパッタリング標的分子の原子重量と類似しているため、薄膜の均一性を最適化することが重要です。