Mi az RF Magnetron porlasztása?

A rádiófrekvenciás mágneses porlasztás, amelyet RF magnetron porlasztásnak is neveznek, egy olyan folyamat, amelyet vékony film készítésére használnak, különösen akkor, ha nem vezetőképes anyagokat használnak.Ebben a folyamatban vékony fóliát termesztenek egy szubsztráton, amelyet egy vákuumkamrába helyeznek.Az erőteljes mágneseket a célanyag ionizálására használják, és arra ösztönzik azt, hogy vékony film formájában rendezzék a szubsztrátot.

Az RF magnetron porlasztási folyamatának első lépése az, hogy egy szubsztrát anyagot vákuumkamrába helyezzünk.Ezután a levegőt eltávolítják, és a célanyagot, az anyagot, amely a vékony fóliát tartalmazza, gáz formájában engedik a kamrába.Ennek az anyagnak a részecskéit erőteljes mágnesek felhasználásával ionizálják.Most plazma formájában a negatív töltésű célanyagok a szubsztrátumon vonulnak fel, hogy vékony filmet képezzenek.A vékony fóliák vastagsága lehet néhány és néhány száz atom vagy molekula között.Az ionizált atomok nagyobb valószínűséggel kölcsönhatásba lépnek a vékony film folyamatában részt vevő többi részecskével, és ezért valószínűbb, hogy a szubsztráton telepednek le.Ez növeli a vékonyréteg-folyamat hatékonyságát, lehetővé téve számukra, hogy gyorsabban és alacsonyabb nyomáson növekedjenek.Ezeknek az anyagoknak nehézségekbe ütközhetnek egy vékony fóliává, mert mágnesesség használata nélkül pozitív töltésűvé válnak.A pozitív töltésű atomok lelassítják a porlasztási folyamatot, és „megmérgezhetik” a célanyag más részecskéit, tovább lassítva a folyamatot.A dióda (DC) magnetron porlasztása csak vezető anyagokkal működik.A DC magnetron porlasztást gyakran magasabb nyomáson végzik, amelyet nehéz lehet fenntartani.Az RF magnetron porlasztás során alkalmazott alacsonyabb nyomás a vákuumkamrában lévő ionizált részecskék magas százaléka miatt lehetséges.