Apa itu evaporator film tipis?

Evaporator film tipis adalah mesin yang digunakan untuk membuat film tipis.Dengan menguapkan atau sublimasi berbagai elemen, evaporator film tipis dapat menyimpan lapisan atom atau molekul yang sangat tipis ke bahan substrat.Mesin ini terdiri dari ruang vakum, elemen pemanas dan peralatan yang memegang dan menggerakkan substrat saat film tipis diendapkan ke atasnya.

Ada dua jenis penguapan utama yang dapat digunakan untuk membuat film tipis.Ini adalah penguapan resistif dan penguapan balok elektron.Dalam kedua teknik ini, bahan target dipanaskan dalam evaporator film tipis sampai menguap atau menyublimkan.Sebagai gas, bahan target bergerak melalui ruang vakum sampai mendarat di atas substrat dan membentuk film tipis.Kedua teknik ini mensyaratkan bahwa bahan target sama stabilnya dengan gas.

Dalam penguapan resistif, arus listrik dilewatkan melalui bahan target, yang menjadi panas seperti energi.Dengan panas yang cukup, bahan target menguap atau sublimat.Emas dan aluminium adalah bahan target umum yang dapat diuapkan dalam bentuk kabel logam, yang disebut filamen.Bahan target dalam bentuk filamen sulit dimuat ke evaporator dan hanya dapat dikerjakan dalam jumlah kecil.Evaporator film tipis juga dapat menggunakan lembaran tipis bahan target, yang sering lebih mudah dikerjakan dan menghasilkan lebih banyak materi ketika diuapkan.

Beberapa bahan target tidak cocok untuk penguapan resistif karena mereka dapat menumpahkan sebagian besar materi padat selama proses tersebut.Jika padatan ini bertabrakan dengan film tipis yang terbentuk pada substrat, mereka dapat merusaknya.Menguapkan bahan -bahan ini membutuhkan penggunaan sumber pemanas tertutup yang memungkinkan bentuk gas dari bahan untuk melarikan diri melalui lubang kecil sambil menjebak bagian -bagian materi padat di dalam ruang pemanas.

Penguapan balok elektron memanaskan bahan target dengan mengarahkan sinar elektron energi tinggi di dalamnya.Dalam jenis evaporator film tipis ini, bahan target disimpan di perapian yang didinginkan saat dibombardir dengan elektron dan dipanaskan.Proses ini berguna untuk bahan target dengan suhu penguapan yang sangat tinggi karena sinar energi yang terfokus dapat memanaskan bahan target tanpa memanaskan seluruh peralatan.Wadah yang menahan bahan target tidak terpapar panas ekstrem, sehingga tidak meleleh atau menguap selama proses.Jenis penguapan film tipis ini membutuhkan peralatan tertentu dan bisa sangat mahal.